Plein cadrePavillon espagnol pour l'exposition internationale de Shanghai de 2010 (2007-2010) : Maquette finaleTagliabue Benedetta (née en 1963)architecte, Cote cliché11-517544N° d’inventaireAM2010-2-539FondsArchitectureDescription:Projet réalisé par l'agence Miralles-Tagliabue EMBT. inauguration en mai 2010. Echelle 1/100èmeNote de l'image4N23548DateJuin 2008Période21e siècleEurope (période) - période contemporaine de 1914 à nos joursTechnique/Matièreacier, soudéDimensionsHauteur : 0.2 mLargeur : 1.67 mProfondeur : 0.71 mMode d'entréeDon de l'artiste en 2010LocalisationParis, Centre Pompidou - Musée national d'art moderne - Centre de création industrielleCrédit(C) Centre Pompidou, MNAM-CCI, Dist. GrandPalaisRmn / Philippe MigeatDroits d'auteur:(C) Benedetta TagliabueMots clésmaquette d'architecture, pavillon d'exposition, projet architecturalRésolution5152 X 2820 pixelsPermalienhttps://photo.rmn.fr/archive/11-517544-2C6NU0MAAWWE.htmlVers la Collection du MNAM-CCI / Centre PompidouAjouter à la sélection: 'My First Sélection'Ajouter au panierImprimerAutres imagesVoir toutes les images associées
