Plein cadrePavillon espagnol pour l'exposition internationale de Shanghai de 2010 : Maquette d'étude généraleTagliabue Benedetta (née en 1963)architecte, Cote cliché11-506471N° d’inventaireAM2010-2-537FondsArchitectureDescription:Projet réalisé par l'agence Miralles-Tagliabue EMBT inauguration en mai 2010. 2007-2010. Note de l'image4N23546Date2007Période21e siècleEurope (période) - période contemporaine de 1914 à nos joursTechnique/MatièrecartonDimensionsHauteur : 0.1 mLargeur : 0.62 mProfondeur : 0.28 mMode d'entréeDon de l'artiste en 2010LocalisationParis, Centre Pompidou - Musée national d'art moderne - Centre de création industrielleCrédit(C) Centre Pompidou, MNAM-CCI, Dist. GrandPalaisRmn / Philippe MigeatDroits d'auteur:(C) Benedetta TagliabueMots clésmaquette d'architecture, pavillon d'exposition, projet architecturalRésolution5344 X 4008 pixelsPermalienhttps://photo.rmn.fr/archive/11-506471-2C6NU0MW9GFK.htmlVers la Collection du MNAM-CCI / Centre PompidouAjouter à la sélection: 'My First Sélection'Ajouter au panierImprimerAutres imagesVoir toutes les images associées
